Patterning-induced strain relief in single lithographic SiGe nanostructures studied by nanobeam x-ray diffraction

	Anno di pubblicazione
	
				2012
			
	Titolo della rivista
	
				NANOTECHNOLOGY
			
	Appare nelle tipologie:
	
				01.1 Articolo in Rivista

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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11311/660538

RE.PUBLIC@POLIMI pubblicazioni di ricerca del Politecnico di Milano