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NOTA: è possibile cercare una corrispondenza esatta usando i doppi apici, ad es: "evoluzione della specie". Qualora si cerchi un identificativo, è consigliabile cercarlo in due modi differenti: tra apici con caratteri speciali es: "978-94-6366-274" oppure senza caratteri speciali solo come sequenza numerica: es 978946366274.
Characterization of Ge-on-Si virtual substrates and single junction GaAs solar cells
2006-01-01 R., Ginige; B., Corbett; M., Modreanu; C., Barrett; J., Hilgarth; Isella, Giovanni; Chrastina, Daniel; VON KÄNEL, Hans
Characterization of integrated waveguides by atomic-force-microscopy-assisted mid-infrared imaging and spectroscopy
2020-01-01 Gallacher, K.; Millar, R. W.; Paul, D. J.; Frigerio, J.; Ballabio, A.; Isella, G.; Rusconi, F.; Biagioni, P.; Giliberti, V.; Sorgi, A.; Baldassarre, L.; Ortolani, M.
CMOS-Compatible Bias-Tunable Dual-Band Detector Based on GeSn/Ge/Si Coupled Photodiodes
2021-01-01 Talamas Simola, E.; Kiyek, V.; Ballabio, A.; Schlykow, V.; Frigerio, J.; Zucchetti, C.; De Iacovo, A.; Colace, L.; Yamamoto, Y.; Capellini, G.; Grutzmacher, D.; Buca, D.; Isella, G.
Comparison of ultrafast carrier thermalization in Gaxln1-xAs and Ge quantum wells
2010-01-01 C., Lange; N. S., Köster; S., Chatterjeee; H., Sigg; Chrastina, Daniel; Isella, Giovanni; H., von Känel; B., Kunert; W., Stolz
Composition determination of semiconductor alloys towards atomic accuracy by HAADF-STEM
2019-01-01 Duschek, L.; Kukelhan, P.; Beyer, A.; Firoozabadi, S.; Oelerich, J. O.; Fuchs, C.; Stolz, W.; Ballabio, A.; Isella, G.; Volz, K.
Compressively strained Ge channels on relaxed SiGe buffer layers
2003-01-01 Bollani, Monica; E., Mueller; S., Signoretti; C., Beeli; Isella, Giovanni; M., Kummer; H., VON KAENEL
Controlling the polarization dynamics by strong THz fields in photoexcited germanium quantum wells
2013-01-01 Niko S., Köster; Andrea C., Klettke; Benjamin, Ewers; Ronja, Woscholski; Cecchi, STEFANO CARLO; Chrastina, Daniel; Isella, Giovanni; Mackillo, Kira; Stephan W., Koch; Sangam, Chatterjee
Crystallinity and microstructure in Si films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition: A simple atomic-scale model validated by experiments
2009-01-01 P. L., Novikov; A. L., Donne; S., Cereda; L., Miglio; S., Pizzini; S., Binetti; Rondanini, Maurizio; Cavallotti, CARLO ALESSANDRO; Chrastina, Daniel; Moiseev, Tamara; H. v., Kanel; Isella, Giovanni; F., Montalenti
Cyclotron Resonance of Extremely Conductive 2D Holes in High Ge Content Strained Heterostructures
2010-01-01 O. A., Mironoy; M., Goiran; J., Galibert; D. V., Kozlov; A. V., Ikonnikov; K. E., Spirin; V. I., Gavrilenko; Isella, Giovanni; M., Kummer; H., von Känel; O., Drachenko; M., Helm; J., Wosnitza; R. J. H., Morris; D. R., Leadley
Defect analysis of hydrogenated nanocrystalline Si thin films
2007-01-01 A., Cavallini; D., Cavalcoli; M., Rossi; A., Tomasi; S., Pizzini; Chrastina, Daniel; Isella, Giovanni
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- 2010 - 2019 174
- 2000 - 2009 67
- 1997 - 1999 4
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