RE.PUBLIC@POLIMI pubblicazioni di ricerca del Politecnico di Milano

Plasma Composition and Kinetic Reaction Rates in a LEPECVD Ar-SiH4-H2 Plasma Durign nc-Si Films Deposition for Photovoltaic Applications

MOISEEV, TAMARA;CHRASTINA, DANIEL;ISELLA, GIOVANNI;CAVALLOTTI, CARLO ALESSANDRO
2009-01-01
2009
ECS Transations
04.1 Contributo in Atti di convegno
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