High growth rate process in a SiC horizontal CVD reactor using HCl

VENERONI, ALESSANDRO;ZAMOLO, LAURA;MASI, MAURIZIO;
2006-01-01

2006
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11311/553262
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 23
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? 17
social impact