Strain release management in SiGe/Si films by substrate patterning

MONDIALI, VALERIA;BOLLANI, MONICA;CHRASTINA, DANIEL;CECCHI, STEFANO CARLO;
2014-01-01

2014
File in questo prodotto:
File Dimensione Formato  
ApplPhysLett_105_242103.pdf

accesso aperto

: Post-Print (DRAFT o Author’s Accepted Manuscript-AAM)
Dimensione 1.81 MB
Formato Adobe PDF
1.81 MB Adobe PDF Visualizza/Apri

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11311/877563
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 6
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? 5
social impact