Straining Ge bulk and nanomembranes for optoelectronic applications: a systematic numerical analysis
BOLLANI, MONICA;CHRASTINA, DANIEL
2014-01-01
File in questo prodotto:
File | Dimensione | Formato | |
---|---|---|---|
SST_29_9_095012.pdf
Accesso riservato
:
Post-Print (DRAFT o Author’s Accepted Manuscript-AAM)
Dimensione
1.19 MB
Formato
Adobe PDF
|
1.19 MB | Adobe PDF | Visualizza/Apri |
Straining Ge bulk and nanomembranes for optoelectronic applications_11311-849538_Chrastina.pdf
accesso aperto
:
Post-Print (DRAFT o Author’s Accepted Manuscript-AAM)
Dimensione
1.16 MB
Formato
Adobe PDF
|
1.16 MB | Adobe PDF | Visualizza/Apri |
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.