Metastability and relaxation in tensile SiGe on Ge(001) virtual substrates
FRIGERIO, JACOPO;LODARI, MARIO;CHRASTINA, DANIEL;MONDIALI, VALERIA;ISELLA, GIOVANNI;BOLLANI, MONICA
2014-01-01
File in questo prodotto:
File | Dimensione | Formato | |
---|---|---|---|
JApplPhys_116_113507.pdf
accesso aperto
:
Post-Print (DRAFT o Author’s Accepted Manuscript-AAM)
Dimensione
1.73 MB
Formato
Adobe PDF
|
1.73 MB | Adobe PDF | Visualizza/Apri |
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.