A Kinetic Analysis of the Growth and Doping Kinetics of the SiC Chemical Vapor Deposition Process

CAVALLOTTI, CARLO ALESSANDRO;ROSSI, FILIPPO;RAVASIO, STEFANO VALERIO;MASI, MAURIZIO
2014-01-01

2014
File in questo prodotto:
File Dimensione Formato  
cavallotti et al - published.pdf

Accesso riservato

: Post-Print (DRAFT o Author’s Accepted Manuscript-AAM)
Dimensione 1.92 MB
Formato Adobe PDF
1.92 MB Adobe PDF   Visualizza/Apri
Kinetic analysis of the growth and doping kineticss of the SiC chemical vapor deposition process_11311-847140_Rossi.pdf

accesso aperto

: Post-Print (DRAFT o Author’s Accepted Manuscript-AAM)
Dimensione 1.89 MB
Formato Adobe PDF
1.89 MB Adobe PDF Visualizza/Apri

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11311/847140
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 12
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? 10
social impact