L’invenzione consiste in un procedimento per la modifica superficiale del titanio, del tantalio e delle rispettive leghe mediante un trattamento elettrochimico di ossidazione anodica in una particolare soluzione. Il trattamento elettrochimico è operato mediante la tecnica nota come Anodic Spark Deposition (ASD). Più in particolare, l’invenzione riguarda la composizione, la concentrazione e il metodo di preparazione della soluzione utilizzata per il effettuare il trattamento elettrochimico ASD, nonché la scelta dei parametri di trattamento (voltaggio finale, densità di corrente, tempi, temperature). La particolare soluzione chimica utilizzata per il trattamento ASD, nonché l’opportuna scelta dei parametri di trattamento consentono di ottenere un film di ossido di titanio arricchito con particolari elementi chimici e dalla peculiare morfologia microporosa. La superficie ottenuta attraverso il processo messo a punto con la presente invenzione, consente: - di ottenere un film di ossido di titanio o tantalio arricchito con gli elementi chimici Ca, P, Si, Na dalle note proprietà osteoinduttive, nonché di elementi chimici quali Ga o Ag dalle riconosciute proprietà antibatteriche; - di ottenere un film di ossido di titanio o tantalio con una morfologia superficiale microporosa, aderente e resistente; - di apportare proprietà biomimetiche al titanio o al tantalio; - di conferire proprietà antibatteriche al titanio o al tantalio; - più in generale, di apportare proprietà bioattive al titanio o al tantalio conferendo proprietà osteoinduttive ed antibatteriche. Il particolare trattamento sviluppato è stato caratterizzato con una serie di prove e saggi, descritti in seguito, che comprovano l’effettiva efficacia nel rendere biomimetica ed antibatterica la superficie.
Metal substrate modified with silicon based biomimetic treatment having antibacterial property for the osteointegration thereof
CHIESA, ROBERTO;CIGADA, ALBERTO;
2012-01-01
Abstract
L’invenzione consiste in un procedimento per la modifica superficiale del titanio, del tantalio e delle rispettive leghe mediante un trattamento elettrochimico di ossidazione anodica in una particolare soluzione. Il trattamento elettrochimico è operato mediante la tecnica nota come Anodic Spark Deposition (ASD). Più in particolare, l’invenzione riguarda la composizione, la concentrazione e il metodo di preparazione della soluzione utilizzata per il effettuare il trattamento elettrochimico ASD, nonché la scelta dei parametri di trattamento (voltaggio finale, densità di corrente, tempi, temperature). La particolare soluzione chimica utilizzata per il trattamento ASD, nonché l’opportuna scelta dei parametri di trattamento consentono di ottenere un film di ossido di titanio arricchito con particolari elementi chimici e dalla peculiare morfologia microporosa. La superficie ottenuta attraverso il processo messo a punto con la presente invenzione, consente: - di ottenere un film di ossido di titanio o tantalio arricchito con gli elementi chimici Ca, P, Si, Na dalle note proprietà osteoinduttive, nonché di elementi chimici quali Ga o Ag dalle riconosciute proprietà antibatteriche; - di ottenere un film di ossido di titanio o tantalio con una morfologia superficiale microporosa, aderente e resistente; - di apportare proprietà biomimetiche al titanio o al tantalio; - di conferire proprietà antibatteriche al titanio o al tantalio; - più in generale, di apportare proprietà bioattive al titanio o al tantalio conferendo proprietà osteoinduttive ed antibatteriche. Il particolare trattamento sviluppato è stato caratterizzato con una serie di prove e saggi, descritti in seguito, che comprovano l’effettiva efficacia nel rendere biomimetica ed antibatterica la superficie.I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
