Thin relaxed SiGe virtual substrates grown by low-energy plasma-enhanced chemical vapor deposition
CHRASTINA, DANIEL;ISELLA, GIOVANNI;BOLLANI, MONICA;
2005-01-01
File in questo prodotto:
File | Dimensione | Formato | |
---|---|---|---|
journal of crystal growth(2005).pdf
Accesso riservato
:
Altro materiale allegato
Dimensione
1.4 MB
Formato
Adobe PDF
|
1.4 MB | Adobe PDF | Visualizza/Apri |
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.