Leghe elettrodeposte Ni-20Fe sono state preparate da una soluzione semplice priva di additivi, operando in condizioni di corrente continua e di corrente pulsata, e caratterizzate come materiale di interesse per microelettroformatura. La microstruttura delle leghe allo stato di deposizione e dopo trattamento di ricottura a T nell’intervallo da 200 a 600°C è stata caratterizzata mediante analisi di diffrazione di raggi X. La struttura delle leghe è nanocristallina, con dimensione dei domini coerenti di diffrazione di circa 25 o 15 nm, rispettivamente per leghe ottenute in condizioni di corrente continua e pulsata. La stabilità termica della lega è limitata: l’accrescimento di grano è lento fino a T di ricottura di 300°C, con incremento della dimensione media dei cristalli da circa 25 a valori inferiori a 40 nm per durata del trattamento termico di 6 ore. Si è verificata la validità della legge di Hall-Petch per i depositi di lega, con l’esclusione di quelli sottoposti a trattamento di ricottura a T > 400°C, per i quali si è riscontrato il manifestarsi di un effetto di rafforzamento che può attribuirsi, in assenza di evidenze dirette, all’ordinamento locale della struttura di composizione vicina a FeNi3. I risultati ottenuti permettono di concludere che è possibile ottenere da soluzioni prive di additivi rivestimenti di elevato spessore di lega Ni-20Fe a microstruttura controllata attraverso un’opportuna selezione delle condizioni operative e un trattamento termico post-deposizione.

RIVESTIMENTI NANOCRISTALLINI DI LEGA Ni-Fe TIPO PERMALLOY

VICENZO, ANTONELLO
2010-01-01

Abstract

Leghe elettrodeposte Ni-20Fe sono state preparate da una soluzione semplice priva di additivi, operando in condizioni di corrente continua e di corrente pulsata, e caratterizzate come materiale di interesse per microelettroformatura. La microstruttura delle leghe allo stato di deposizione e dopo trattamento di ricottura a T nell’intervallo da 200 a 600°C è stata caratterizzata mediante analisi di diffrazione di raggi X. La struttura delle leghe è nanocristallina, con dimensione dei domini coerenti di diffrazione di circa 25 o 15 nm, rispettivamente per leghe ottenute in condizioni di corrente continua e pulsata. La stabilità termica della lega è limitata: l’accrescimento di grano è lento fino a T di ricottura di 300°C, con incremento della dimensione media dei cristalli da circa 25 a valori inferiori a 40 nm per durata del trattamento termico di 6 ore. Si è verificata la validità della legge di Hall-Petch per i depositi di lega, con l’esclusione di quelli sottoposti a trattamento di ricottura a T > 400°C, per i quali si è riscontrato il manifestarsi di un effetto di rafforzamento che può attribuirsi, in assenza di evidenze dirette, all’ordinamento locale della struttura di composizione vicina a FeNi3. I risultati ottenuti permettono di concludere che è possibile ottenere da soluzioni prive di additivi rivestimenti di elevato spessore di lega Ni-20Fe a microstruttura controllata attraverso un’opportuna selezione delle condizioni operative e un trattamento termico post-deposizione.
2010
9788885298804
Leghe nichel - ferro; elettrodeposizione; materiali nanocristallini; Hall-Petch
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