Rivestimenti di Ni-W amorfo per elettrodeposizione - AMORPHOUS NI-W COATINGS BY ELECTRODEPOSITION

Si è studiato un processo di deposizione da bagno acido di rivestimenti di lega amorfa Ni-W, esaminando da una parte gli effetti di alcuni parametri di composizione dell’elettrolita e dall’altra l’influenza della densità di corrente e della sua modulazione a impulsi unipolari, pur in un campo limitato di parametri operativi. I depositi ottenuti presentano un insieme di proprietà, allo stato di deposizione o dopo trattamento termico, di sicuro interesse applicativo. La caratterizzazione dei depositi di lega amorfa Ni-W ha fatto emergere in particolare quanto segue: (1) la struttura allo stato di deposizione è amorfa per tenore di tungsteno superiore a circa 18% at., valore poco superiore al limite di solubilità del W nel Ni; (2) la durezza dei depositi aumenta col tenore di W nell’intervallo di composizione 17-32%at. da circa 5 a 7,5 GPa, rispettivamente; (3) la struttura di deposizione si mantiene inalterata dopo permanenza a 450°C per 6 h, secondo l’analisi di diffrazione di raggi X; (4) le leghe al 30%at. di W manifestano all’aumentare della temperatura dapprima la trasformazione da struttura amorfa a struttura cristallina quindi la separazione di una seconda fase entro la matrice Ni-W; (5) le trasformazioni della struttura producono un aumento considerevole della durezza fino a valori di oltre 20 GPa, secondo misure di indentazione a carco massimo di 50 mN.