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EnglishHeterojunction photodiodes fabricated form Ge/Si (100) layers grown by low-energy plasma-enhanced CVD / G. Isella; R. Kaufmann; M. Kummer; J. Osmond; H. Von Kaenel. - In: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. - ISSN 0268-1242. - 1:1(2007), pp. 26-28.
| Titolo: | Heterojunction photodiodes fabricated form Ge/Si (100) layers grown by low-energy plasma-enhanced CVD |
| Autori: | |
| Data di pubblicazione: | 2007 |
| Rivista: | |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11311/262208 |
| Appare nelle tipologie: | 01.1 Articolo in Rivista |
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