Heterojunction photodiodes fabricated form Ge/Si (100) layers grown by low-energy plasma-enhanced CVD

ISELLA, GIOVANNI;OSMOND, JOHANN;
2007-01-01

2007
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11311/262208
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? 34
social impact