L'invenzione si riferisce a monomeri ad alto indice di rifrazione a base di zolfo e/o selenio per lo sviluppo di fotopolimeri. L’invenzione trova sue forme di applicazione in tutti quei dispositivi, appartenenti a diversi settori della tecnica, le cui proprietà ottiche, e specificatamente l’indice di rifrazione, dipendono fortemente dai monomeri e dai corrispondenti polimeri compresi nei materiali fotoattivi di detti dispositivi.
MONOMERI AD ALTO INDICE DI RIFRAZIONE A BASE DI ZOLFO E/O SELENIO
C. Bertarelli;P. Galli;A. Bianco;P. Moretti
2022-01-01
Abstract
L'invenzione si riferisce a monomeri ad alto indice di rifrazione a base di zolfo e/o selenio per lo sviluppo di fotopolimeri. L’invenzione trova sue forme di applicazione in tutti quei dispositivi, appartenenti a diversi settori della tecnica, le cui proprietà ottiche, e specificatamente l’indice di rifrazione, dipendono fortemente dai monomeri e dai corrispondenti polimeri compresi nei materiali fotoattivi di detti dispositivi.File in questo prodotto:
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