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CVD: from process to properties 1-gen-2003 CARRA', SERGIOCAVALLOTTI, CARLO ALESSANDRODI STANISLAO, MARCO SANTEMASI, MAURIZIOVENERONI, ALESSANDRO
Simulation of silicon thermal oxidation and stress analysis in flash memory technology 1-gen-2003 MASI, MAURIZIOVENERONI, ALESSANDRO +
A multiscale approach to the study of epitaxial film evolution during MOCVD 1-gen-2003 CARRA', SERGIOCAVALLOTTI, CARLO ALESSANDROMASI, MAURIZIOMOSCATELLI, DAVIDEVENERONI, ALESSANDRO
Fluid-dynamics during vapor epitaxy and modeling 1-gen-2003 MASI, MAURIZIODI STANISLAO, MARCO SANTEVENERONI, ALESSANDRO
Deposizione epitassiale di carburo di silicio: un esempio di sinergia tra reattoristica e ingegneria delle reazioni chimiche nella progettazione di reattori e processi per la produzione di materiali innovativi 1-gen-2004 MASI, MAURIZIOVENERONI, ALESSANDRO +
Multiscale simulation of thin films growth: a new paradigm for chemical reaction engineering 1-gen-2004 CAVALLOTTI, CARLO ALESSANDROMASI, MAURIZIOVENERONI, ALESSANDRO +
A combined three-dimensional kinetic Monte Carlo and quantum chemistry study of the CVD of Si on Si(100) surfaces 1-gen-2004 CAVALLOTTI, CARLO ALESSANDROBARBATO, ALESSANDROVENERONI, ALESSANDRO
Epitaxial deposition of silicon carbide films in a horizontal hot-wall CVD reactor 1-gen-2005 MASI, MAURIZIOVENERONI, ALESSANDRO +
New Achievements on CVD Based Methods for SiC Epitaxial Growth 1-gen-2005 VALENTE, GIANLUCAVENERONI, ALESSANDROZAMOLO, LAURAMASI, MAURIZIO +
Epitaxial Deposition of Silicon Carbide Films in a Horizontal Hotwall CVD Reactor 1-gen-2005 VENERONI, ALESSANDROMASI, MAURIZIO +
A multiscale study of the epitaxial CVD of Si from chlorosilanes 1-gen-2005 CAVALLOTTI, CARLO ALESSANDROMOSCATELLI, DAVIDEVENERONI, ALESSANDRO
Modeling of large-scale horizontal reactor for silicon epitaxy 1-gen-2005 MASI, MAURIZIOMOSCATELLI, DAVIDEVENERONI, ALESSANDRO
Horizontal hot wall reactor design for epi-SiC growth 1-gen-2005 VENERONI, ALESSANDROMASI, MAURIZIO +
Modeling of epitaxial silicon carbide deposition 1-gen-2005 MASI, MAURIZIOMOSCATELLI, DAVIDEVENERONI, ALESSANDRO +
Multiscale simulation of silicon film growth 1-gen-2005 CAVALLOTTI, CARLO ALESSANDROVENERONI, ALESSANDROMASI, MAURIZIO +
Silicon carbide growth mechanism from SiH4, SiHCl3 and nC3H8 1-gen-2005 VENERONI, ALESSANDROMASI, MAURIZIO +
Multiscale simulation in crystal growth from the vapor phase 1-gen-2005 CAVALLOTTI, CARLO ALESSANDRODI STANISLAO, MARCO SANTEMASI, MAURIZIOVENERONI, ALESSANDRO
Multi-hierachy design approach of a new MOCVD reactor for heteroepitaxial GaAs deposition on large scale Ge substrates for the manufacture of satellite-use solar cells 1-gen-2005 CAVALLOTTI, CARLO ALESSANDROMASI, MAURIZIOMOSCATELLI, DAVIDEVENERONI, ALESSANDRO
Materials computation towards technological impact: the multiscale approach to thin films deposition 1-gen-2005 CAVALLOTTI, CARLO ALESSANDROMOSCATELLI, DAVIDEVENERONI, ALESSANDRO +
Designing a large scale CVD reactor for GaAs growth on Ge substrates by multi-hierachy modeling 1-gen-2005 MOSCATELLI, DAVIDEVENERONI, ALESSANDROCAVALLOTTI, CARLO ALESSANDROMASI, MAURIZIO +
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